- 検出器: FID、TCD、ECD、FPD、NPD
- 温度調節エリア：8方向
- 温度上昇の手順16ステップ
- 温度制御範囲: 室温 -450°C
- 範囲上昇速度比：0.1～80℃/分
ガスクロマトグラフ、 GC-901
説明
GC-901、EPC電子流量制御と機器の完全コンピュータ制御を実現し、高精度液体自動サンプラーを搭載できます。石油、化学工業、環境保護、食品安全、疾病管理、教育、科学研究など、幅広い分野で幅広く使用できます。
1. 温度調節エリア：8方向
2. 手順温度上昇のステップ数：16ステップ
3. 外部イベント：6パス、補助制御出力2パス
4.ガス回路制御：EPCモードはオプションです
5. 温度制御範囲：RT -450°C、増分：0.1°C、精度：0.01°C
6. 昇温速度比：0.1～80℃/分（高速タイプ）
7. 検出数：3（最大）；FID、TCD、ECD、FPD、NPDはオプション
8. 注入方法：充填カラム、キャピラリー、注入バルブ、自動ヘッドスペース注入（オプション）
9. EPC、EFC動作モード：定電流モード、定電圧モードの2種類
10. EPC、EFC作動ガス：5種類：窒素、水素、空気、ヘリウム、アルゴン
11. EPC、EFC制御範囲：圧力：0～0.6MPa、流量：0～100ml/分または0～500ml/分（空気）
12. EPC、EFC制御精度：圧力0.01psi、流量0.01ml/分
| 検出器 | 感度/検出限界 | ドリフト（30分） | 直線性 |
| 水素炎FID | DFID≤3×10 -12 g/s (N-ヘキサデカン/イソオクタン) | ≤0.2mv | ＞10 7 |
| 熱伝導率セルTCD | S≥10000mv.ml/mg(ベンゼン/トルエン) | ≤20uv | ＞10 5 |
| 電子捕獲ECD | DECD≤1×10 -14 g/ml(γ-666) | 15紫外線未満 | ＞10 6 |
| 炎の輝度FPD | DFPD(S)≤2×10 -11 g/s （メチルパラチオン中のS） | フルスケールの3%以下 | ＞10 3 |
| DFPD(P)≤1×10 -12 g/s （メチルパラチオン中のP） | ＞10 4 | ||
| 窒素とリン NPD | DNPD(N)≤1×10 -12 g/s (アゾベンゼン) | フルスケールの3%以下 | ＞10 2 |
| DNPD(P)≤1×10 -12 g/s(マラチオン) | ＞10 3 |
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